产品名称：IDEAOPTICS复享 MetronFilm-MS 显微反射膜厚测量仪

技术参数

参数指标

波长范围

可选190 - 1100nm或380-1100nm

光源

卤素灯+氘灯 或 卤素灯

5X物镜厚度测量范围*

15nm-60μm@VIS

10X物镜厚度测量范围*1

15nm-60μm@VIS，2nm-60μm@UV+VIS

15X物镜厚度测量范围*1

15nm-60μm@VIS，2nm-60μm@UV+VIS

50X物镜测量范围*

20nm-2μm@VIS

测量n和 k厚度要求*

50nm

准确度* : 

2nm@≦1000nm，或0.2%@≧1000nm2

精度3

0.02nm2

稳定性4

0.05nm2

样品尺寸

*大300mm

微区显示

支持

半导体制程

显示面板

微小区域内工艺薄膜膜厚和光学常数检测、电介质薄膜膜厚和光学常数检测，等等。例如：分立光电器件、LED 芯片、激光芯片、PD / 光电探测器上的电极区介质膜、增透膜等；又例如微型传感器芯片、MEMS 器件的表面薄膜、钝化膜、绝缘膜等的微小区域薄膜的厚度及其光学常数精密快速检测。
也常用于半导体的科研、研发过程中的阵列小件的定点微区测量、多点矩阵测量等；例如研发中针对阵列小件单颗单元、局部功能区、微结构区域做精准单点检测，又例如实验室中小尺寸自制样件、多组阵列、二维材料 / 钙钛矿等新型薄膜样品，因尺寸极小，仅适配微区光斑测量。

 LCD/OLED面板、手机盖板、TP、显示模组、摄像头里，有大量微米级的图案化、窄条、微区的区域膜厚测量的要求。包括：
1. OLED 显示层：例如5–20μm的像素定义区（PDL）需要测定 PI、有机层、ITO等膜层厚度；10–30μm区域的像素间沟槽，需测定残留光刻胶、绝缘层的膜层厚度；1–5μm区域的微腔结构测定HTL/EML/ETL有机膜的膜厚； 
2. LCD 彩膜和偏光片：10–20μm 格状的BM 黑矩阵需要测厚度均匀性，15–30μm 像素区需要测膜厚差，50μm左右的贴合区需要测胶层厚度等等；
3. 手机的盖板或触控区：20–50μm的盖板边缘强化区需测定硬化层、AF 防指纹膜等；10μm的屏下指纹区需要测光学胶、滤光膜等
4. 封装/背板（Mini-LED/Micro-LED）：20–50μm划片槽（scribe line）需要测 SiO₂、SiNx、光刻胶残留；5–10μm微焊盘需要测钝化层厚度等

精密光学元件

生命科学

在生态研微型透镜、棱镜、光学滤光片、微型窗口片（镀膜仅局部区域）的膜厚检测，还有光纤端面、光纤头、光芯片端面镀膜的微小区域膜厚及其光学常数检测；另外还有大量曲面镜、球面镜的测定需要小光斑测量其弧面的膜层。究和农业管理中，太阳诱导叶绿素荧光（SIF）测试信号非常微弱，需要光谱仪具备足够高的光谱分辨率才能进行解析

医疗器械微型组件、内窥镜微小镜头等的镀膜厚度及光学常数无损检测；医疗设备或其它生物医学器械防腐蚀涂层（例如心脏支架、注射器涂层、器械腔体零件涂层等）的厚度无损检测、钝化和/或**输送涂层的厚度无损检测，**载体或控释屏障如可降解高分子薄膜等的厚度无损检测，等等。