产品名称：IDEAOPTICS复享 MetronFilm 反射膜厚测量仪

   型号

信息详情

  MetronFilm:

厚度测量范围 15nm ~ 260μm，VIS

  MetronFilm-EX:

厚度测量范围 1nm ~ 260μm，UV+VIS

   项目内容

信息详情

   波长范围： 

380~1100nm

   光源： 

内置卤素灯

   厚度测量范围： 

15nm ~ 260μm

   测量 n&k *小厚度： 

50nm

   准确度： 

2nm @ ≤1000nm，或 0.2% @ ≥1000nm

   精度 ¹： 

0.02nm

   稳定性 ²： 

0.05nm

   光斑大小： 

1.5mm

   样品尺寸： 

直径从 1mm 到 300mm 或更大

   测量速度： 

单层少于 1s

   项目内容

信息详情

    波长范围：

190~1100nm

    光源：

外置氘灯 + 卤素灯

    厚度测量范围：

1nm ~ 260μm

    测量 n&k *小厚度：

50nm

    准确度：

1nm @ ≤500nm，或 0.2% @ ≥500nm

    精度 ¹：

0.02nm

    稳定性 ²：

0.05nm

    光斑大小：

1.5mm

    样品尺寸：

直径从 1mm 到 300mm 或更大

    测量速度：

单层少于 1s

   型号

信息详情

  备注:

取决于材料

¹ 在连续 10 天内，对 800nm 厚的硅基二氧化硅（SiO₂-on-Si）薄膜每日进行 100 次测量，此值为这些每日平均值的标准偏差值的平均值（1σ）

² 在连续 10 天内，对 800nm 厚的硅基二氧化硅（SiO₂-on-Si）薄膜每日进行 100 次测量，此值为这些每日平均值的 2 倍标准差（2σ）

半导体制程

薄膜光电材料

3D NAND 是通过垂直堆叠多个交替层来突破 2D 结构扩展极限的先进闪存技术，堆叠层数可多达 200 层以上，需要光学无损测量来量化并验证逐层薄膜的均匀性和厚度。

“AR（增透）+HC（硬质）”复合双层结构膜层是眼镜片、相机镜头常用的核心功能涂层，其膜厚和 n&k 值是关键变量，因此更需要无损、准确的检测来提升工艺和良率。

前表面减反射层（如 SiNₓ） 和背表面钝化层（如Al₂O₃/SiNₓ）是光伏 PERC电池中的核心结构，其膜厚和 n&k 的**检测和控制是决定 PERC电池效率及量产稳定性的关键。