产品名称：IDEAOPTICS复享 MetronSEE 光谱椭偏仪

   型号

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 MetronSEE:

光谱椭偏仪

   项目内容

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   仪器配置： 

单旋转补偿器型

   测量波段： 

245~1000nm（可扩展选配 380~1690nm，193~1000nm，）

   测量范围： 

1nm~10μm

   波长间隔： 

≤1nm

   测量参数： 

Psi&Delta，N&C&S，R，DOP

   大光斑尺寸： 

1-8mm

   入射角： 

65° 定角

   单次测量时间： 

≤10s

  数据采集与分析软件： 

软件设计人性化，功能全，色散关系式全、可仿真样品的非理想结构，可对复杂各向异性等进行光学建模、仿真、拟合

 膜厚重复性精度（1σ）： 

优于 0.005nm（100nm 硅基 SiO₂膜，30 次测量）

 折射率重复性精度（1σ）： 

优于 0.001nm（100nm 硅基 SiO₂膜，n @ 633nm，30 次测量）

半导体先进制程

光伏电池

伴随着CMOS器件的持续缩小,传统的栅介质材料 SiO₂ 由于不可接受的隧穿漏电流和本身可靠性的问题,导致其继续作为栅介质材料的应用达到了物理极限。高介电常数材料（如 HfO₂）成为热点。因此研究高介电材料薄膜在不同退火工艺后的电学性能也成为精准管控先进制程的栅极性能、存储可靠性的关键需求。具体包括检测不同工艺后样品是否保持非晶结构，通过 n&k 推导其介电常数，测量等效氧化层的厚度等。还有隔离层（如 SiO₂/SiNₓ）的测定的色散特性与 n&k值，可以确保 3D NAND 堆叠层间光学匹配，避免信号干扰。

AR/VR眼镜、相机镜头常用的复合多层增透涂层，其每层的膜厚和n&k值是决定这两大功能是否达标的关键变量；因此更需要无损、准确的膜厚和 n&k 的协同检测来提升工艺和良率。尤其是多层增透膜中的超薄过渡层（如 MgF₂，5~10nm），以及红外窗口的超薄抗腐蚀光学膜（3~8nm），准确测定这些超薄膜的膜厚及其专用光学常数，是同步匹配光学元件的膜系设计需求，保障光学透过率、反射率的精准控制的专业手段。

薄膜光电材料 TOPCon光伏电池的超薄隧穿氧化层（SiO₂，1~5nm，光伏专用超薄膜）、HJT 电池的超薄非晶硅本征层、以及 OLED器件的超薄有机发光层（EML，5~9nm）、封装超薄阻隔层（Al₂O₃，3~7nm）等等超薄膜层的厚度与其专用光学常数（主要 n&k值，含光伏膜层的折射率均匀性、OLED 膜层的透光系数等专属参数）的测定，均能助力支撑光电性能调控；直接关联电池的光电转换效率、是该行业工艺优化的关键。