产品名称：SPARK闪光 P43 FD Gd2O2 S:Pr,Ce,F 荧光屏

荧光屏的应用范围广泛：电子、X 射线、紫外线、带电粒子等的检测。针对预期目的定制层排列和厚度优化。可提供各种玻璃类型和光纤上的标准格式基材。根据要求，可以根据客户图纸或客户提供的基材进行加工。

● P43、P46、P47、P11等闪烁体

● 可分割涂层区域

● 传感器尺寸 100x100mm²

● 涂层厚度可达 25μm

产品参数：

发射光谱

描述

可用的附加涂层：

ITO(氧化铟锡)

导电底涂层可减少电子和离子引起的静电效应或施加电势。 ITO 涂层也称为 NESA 涂层。可以实现标准和特殊的导电参数。

铝反光涂层

为了将光效率提高高达 100% 并减少杂散光，对于大多数应用而言，在其顶部使用铝层密封荧光粉涂层是有利的。作为标准，建议使用 40 nm 至 50 nm 涂层，但根据特殊要求，厚度可在 40 nm 至 130 nm 之间变化。对于电子来说，需要3 kV的加速电压才能穿透标准的铝反射层。通过使用铝涂层，荧光屏的*大直径减小了 1 毫米，以允许铝层和基板之间的接触。

铬环

允许与荧光屏直接电接触，可以在基板的外部区域溅射宽度达 100 毫米直径的铬环。这确实将荧光体的面积减小到铬环的内径。

可选涂层：

水玻璃

为了提高荧光屏的机械稳定性，可以在沉淀过程中添加水玻璃。

以这种方式制造的屏幕可以抵抗轻微的手指触摸。由于基质中磷光体颗粒密度的降低，该制造工艺导致效率降低 30% 至 40%。

基材上的光学标记

根据客户的要求在玻璃和光纤基板上设置参考标记。

特征：

形状：圆形、矩形、棱柱、台阶板

基材：各种玻璃、光纤、金属、CCD 和 CMOS 传感器

荧光粉：P43、P43 快衰、P46、P47 以及其他可根据要求提供的荧光粉

荧光粉层：4 - 40μm

可选层：ITO、铝、铬

集成：真空法兰

标准基材

圆形、扁形

圆形带台阶

棱镜

锥度

闪烁箔*典型的应用是 X 射线成像、同步加速器辐射、中子和离子成像。荧光粉涂层是通过层压工艺在基材(普通玻璃、金属或由 Kapton 的 PMMA 制成的箔片)上制备的。

我们的层压工艺产生均匀的层结构。为了保证均匀的层结构，至少需要 30μ 的*小层厚度。闪烁层涂层的*大厚度可达约。 150微米。

该屏幕在真空条件下稳定，可耐受高达 400°C 的温度。

基材可由客户提供，或者德国Photonis可以管理特殊定制基材的采购服务。