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  • 产品名称:SPARK闪光 TTT-07-UV Litho-ACA 无掩模板紫外光刻机

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  • 产品厂商:SPARK闪光
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SPARK闪光 TTT-07-UV Litho-ACA 无掩模板紫外光刻机
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SPARK闪光 TTT-07-UV Litho-ACA 无掩模板紫外光刻机




在基础科研中,微纳结构的跨尺度光刻逐渐成为研究者在制备样品过程中的必要手段。常规光刻机需要定制光学掩模板,这不仅增高成本,还使灵活性大打折扣,即当发生任何设计上的变动,都需要重新制造掩模板。激光直写设备具备灵活性,且可以实现较高精度,但由于是逐行扫描,曝光效率较低。近些年,基于空间光调制器(DMD/DLP)的技术在紫外曝光方面获得了长足的进展。
 







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